詳細介紹
活性炭催化劑研磨分散機,氧化鋁催化劑研磨分散機,高剪切研磨分散機,分體式研磨分散機,管線式催化劑研磨分散機
活性炭具有微晶結構,微晶排列*不規則,晶體中有微孔(半徑小于20〔埃〕=10-10米)、過渡孔(半徑20~1000)、大孔(半徑1000~100000),使它具有很大的內表面,比表面積為500~1700米2/克。這決定了活性炭具有良好的吸附性,可以吸附廢水和廢氣中的金屬離子、有害氣體、有機污染物、色素等。工業上應用活性炭還要求機械強度大、耐磨性能好,它的結構力求穩定,吸附所需能量小,以有利于再生。活性炭用于油脂、飲料、食品、飲用水的脫色、脫味,氣體分離、溶劑回收和空氣調節,用作催化劑載體和防毒面具的吸附劑。
催化劑具有表面效應,吸附特性及表面反應等特性,因此納米催化劑在催化領域的應用十分廣泛。實際上,上已把納米粒子催化劑稱為第四代催化劑。我國目前在納米材料的研究應用水平在某些方面處于世界地位,已實現產業化的SiO2、CaCO3、TiO2、ZnO等少數幾個品種,這些制備出來的納米材料在催化領域中主要用于兩個方面:一是直接用作主催化劑,二是作為納米催化劑載體制成負載型催化劑使用。
納米催化劑優點
1、粒徑小,比表面積大,催化效率高。
2、化學反應活性高。
3、納米粒子分散在介質中往往具有透明性,容易運用光學手段和方法來觀察界面間的電荷轉移、質子轉移、半導體能級結構與表面態密度的影響。
IKN/依肯活性炭催化劑分散設備簡介
活性炭催化劑的制備可采用化學法和物理法獲得,獲得后需要進行廣泛的應用,也就是將納米催化劑進行分散,分散到其他基質中,從而更好改性、催化,形成復合型材料。納米催化劑分散,必須采用高精度的分散設備,才能均勻分散,避免物料團聚。
活性炭催化劑研磨分散機,氧化鋁催化劑研磨分散機,高剪切研磨分散機,分體式研磨分散機,管線式催化劑研磨分散機
上海依肯研發的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。
CMD2000研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。
CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
研磨分散機的優勢:
更穩定 采用優化設計理念,將*的技術與創新的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證.
新結構 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.
更可靠 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術 采用*的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
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設備核心參數:
設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%
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