廢氣等離子催化氧化處理裝置
概述:
針對化工、醫藥等行業產生的有機廢氣源復雜多變且濃度高的特點,低溫等離子催化氧化工藝采用如下處理流程:
廢氣收集→預處理塔→除霧器→低溫等離子+催化氧化→廢氣凈化吸收塔等離子體由正離子、負離子、電子和中性離子組成,在外加電場的作用下,放電產生的大量等離子轟擊污染物分子,使其電離、解離和激發,轉變為諸如CO,和H2O等小分子安全物質,或其他低毒低害物質,從而使污染物得以降解除去。因其電離后產生的電子平均能量在1-10eV,適當控制反應條件可以實現一般情況下比較難實現或速度很慢的化學反應變得比較快捷。
在室溫下,當波長在380nm以下的紫外光照射到半導體材料表面時,價帶的電子被紫外光所激發,躍遷到導帶形成自由電子,同時在價帶形成帶正電的空穴,從而形成電子一空穴對。電子一空穴對能產生氧化力較強的自由基,可分解有機物。
因此,在低溫等離子放電的條件下,除了產生大量等離子體外,還產生大量紫外線,由此激發半導體催化劑產生電子一空穴對并形成自由基,從而降解處理有機廢氣。